Laboratoires de fabrication de prothèses dentaires
Le revêtement manipulé quotidiennement au sein de nombreux laboratoires contient de la silice cristalline reconnue comme cancérigène.
Pourquoi agir contre les risques chimiques ?
Les poussières de silice cristalline peuvent induire une inflammation des voies respiratoires, des bronchites chroniques, une insuffisance respiratoire, un retentissement cardiaque (cf. tableau n° 25 des maladies professionnelles), mais aussi, une fibrose pulmonaire. Cette dernière est irréversible, invalidante et n’apparaît en général qu’après plusieurs années d’exposition et son évolution se poursuit même après cessation de l’exposition.
Les résines (poudre et liquide) constituées de méthacrylate de méthyle sont particulièrement allergisantes (affections respiratoires et cutanées - cf. tableau n° 82 des maladies professionnelles).
Les poussières métalliques émises (cobalt, nickel, béryllium…) peuvent être irritantes, toxiques, allergisantes et induire des affections broncho-pulmonaires.
Comment agir contre les risques chimiques ? 2 exemples de mesures de prévention
Réduction de l’exposition
Les évolutions technologiques telles que la conception et fabrication assistées par ordinateur (CFAO) permettent de réduire les quantités de revêtement et l’exposition du personnel.
L’emploi de sachets pré-dosés limite l’exposition du prothésiste comparativement à l’utilisation de revêtement en vrac.
Les matériaux de polissage sans silice cristalline doivent être utilisés.
Conception des locaux et prévention collective
Les activités polluantes (mise en revêtement, de démoulage ou de sablage) doivent être séparées dans des locaux spécifiques car ces opérations dispersent notamment des poussières de silice cristalline.
Le travail à l’humide doit être privilégié (démoulage des cylindres, nettoyage des locaux et des plans de travail).
Les postes de travail des phases exposantes (préparation du revêtement, démoulage, mise en œuvre de résines) doivent être munis d’un captage des polluants avec rejet extérieur.